有機、有機復合膜在電致發亮器件中的利用

有機、有機復合膜在電致發亮器件中的利用
1、小引
　　 有機電致發亮呆滯預示器存在全固態、分量輕、薄厚薄、視角大、構造容易等特點，能在高溫、震撼等頑劣條件中運用，況且能夠兌現大面積的黑白靜態預示，有著很狹小的利用前景。
　　 傳統的電致發亮預示器的構造如圖1所示，是由玻璃、通明下電極、下介質層、發亮層、上介質層和上電極組成，上、下介質層對稱散布于發亮層兩側，為保障器件的耐壓性能，其正常運用低介電常數介質層(介電常數低于50)。傳統的電致發亮預示器中上介質層和下介質層正常采納的是五氧化二鉭、三氧化二釔、三氧化二鋁、三氧化二釤、二氧化鉿等低介電常數的資料，又為了維持較低的閾值電壓，介質層的薄厚正常只能做到300-700納米之間，那樣薄的膜在制備內中中對條件的務求高，而且單層膜也不大適宜利用于高介電常數、高雪崩閾值場強的發亮資料的有機電致發亮預示器件中。為了達成有機器件的務求，經過對各族有機介質資料繼續復合，定然水平上普及了器件中涂層的牢靠性。然而那樣薄的資料在制作內中中很難防止孔洞、污垢染指等狀況產生，而造成介質層絕緣性能上升，在測試屏時造成漏電、擊穿、打火、斷線等狀況產生。
圖1有機EL預示器件的構造簡圖
　　 為了防止有機介質層存在的這種缺點，白文說明了一種采納有機資料復合有機介質層來加強介質層的絕緣性能，從而緩解乃至肅清器件作業時涌現的漏電、打火、擊穿等景象，普及器件電致發亮性能。
2、試驗
　　 白文中介人紹的有機/有機復合步驟，是將有機膜旋涂在已制備好有機介質層的玻璃基板上，并能夠依據理論須要將其光刻成所需圖形。經過旋涂、加熱等內中制作的有機膜崎嶇度比擬高，無效補償了因為有機介質地膜制作內中中造成的一些孔洞、缺點而招致的漏電、打火等平衡固成分，增多了介質膜名義的勻稱性；有機資料介電常數通常比擬低，因而經過有機膜的引入，普及了介質層通體的絕緣性和耐壓牢靠性，從而普及了器件的作業穩固性。
　　 率先預備鍍有ITO的基板玻璃，而后將ITO光刻成列電極圖形，下介質層經過電子束蒸鍍50nm的Al2O3地膜和磁控濺射法[4]制備800nm左右的鈦酸鍶鋇/鈦酸鍶（BST/ST）地膜，制備好下介質層后，電子束蒸鍍500nm左右的硫化鋅摻錳的發亮層，發亮層通過低溫退火使其結晶，再經過電子束和磁控濺射合議制備薄厚別離為100nm/450nm/150nm的HfO2/Ta2O5/Al2O3的上介質層，上介質層制備實現，在其上旋涂一層有機膜，本試驗中運用的有機膜為一種感光型膠，能夠經過光刻目的將其光刻成截面為倒三角狀的隔離柱圖形，如圖2所示，實現有機膜的涂敷成形后，再經過200攝氏度左右的熱度使其堅膜。所以有機膠被光刻成截面為倒三角狀圖形，因而在其上間接蒸鍍鋁上電極，能夠被倒三角狀隔離柱隔扇，構成條狀的行電極。工藝參數如次表1所示。
表1工藝參數
3、綜合與探討
　　 用此步驟制作了有機EL2英寸（128x64像素）矩陣屏A#，齊頭并進行了電學性能測試，與未在上介質層上制作有機膜，利用間接掩模合議制作上電極的屏B#繼續了比擬，L-V曲線見圖3，從后果能夠看出屏A#的發射閾值電壓略有普及，但測試內中中的打火點、斷線等景象顯然縮小，在介質層上增多一道制作有機膜的工藝，通過光刻工藝，只容留隔離柱，像素上的有機膜大全體被顯影去除，然而通過旋涂、加熱等內中有機膜較好的補償了有機介質層的一些缺點、孔洞，很好地普及了上介質層的耐壓絕緣性能，進而普及了屏的發亮穩固性。
圖32寸矩陣屏測試的L-V曲線
4、論斷
　　 試驗中介人紹的是一種感光型膠，也能夠依據理論須要選用非感光型有機膠來復合有機介質膜，比如PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）、olyimide(聚酰亞氨)、PET（Polyethyleneterephthalate）等無機物。那末選用非感光型膠，能夠省去后續的暴光、顯影等步調，不過旋涂薄厚要掌握在50-200nm，那樣不至于普及閾值電壓。比如選用非感光型的PMMA涂敷，它通明性、耐熱性好，在常溫下存在較高的拉伸強度、蜿蜒度和壓縮強度，況且存在耐酸、堿等性能，經過旋涂，PMMA可優化有機介質層的名義，減小地膜名義的毛糙度，介質層名義的起伏度小于0.7nm，即填補了有機介質膜名義的缺點、孔洞，也為制作上電極提供了良好的基底。有機膜能夠經過相反工藝制作在有機介質層上，經過有機膜的復合，加強了介質層的牢靠性，電性能測試時打火、斷線、擊穿等景象也顯然縮小，是一種易于兌現況且在電致發亮預示器中卓有成效的步驟。
　

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